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UV-Ozon Reinigung: Einleitung und Grundlagen

Tags: zerteilt Unterlegscheibe, Blechherstellung, Blechhersteller, Metallhersteller, Teilreinigungsmittel

Ozon, ein zusammengesetztes Bestehen aus drei
Sauerstoffatomen, ist ein in hohem Grade leistungsfähiges
Reinigungsmittel. Wenn er mit einer UV-Licht Quelle
zusammengepaßt wird,IST Ozon in der Lage, fast jede mögliche
Oberfläche schnell und effektiv zu säubern. Dieses ist durch
Jahre der Prüfung und der Forschung bestätigt worden.

In den siebziger Jahren fing eine Reihe Experimente zuerst an,
die Wirksamkeit der UVREINIGUNG und schließlich, die Kombination von
UV- und von Ozon zu zeigen. Ein frühes Experiment in 1972
zeigte dieses UVLICHT, kombiniert mit einem Quarzfilter und eine
Quecksilberlampe, die Ozon erzeugte, war, die Entpolymerisation der
Photoresistpolymer-Plastiken erfolgreich zu unterstützen.

Ein anderes ExperimentWAR in der Lage, die Fähigkeit von UV und
Ozon zu den sauberen Kohlenwasserstoffen von den Glas- und
Goldoberflächen zu demonstrieren. Die Resultate zeigten an,
daß aufgesogene Kohlenwasserstoffe von diesen Oberflächen nach 15
Stunden Aussetzung zur UV/Ozone Mischung entfernt werden konnten und
daß die Speicherung der Oberflächen unter das Reinigungsmittel daß
die unbestimmt zu behaltene Sauberkeit zugeben würde.

Eine andere Reihe Tests in den späten siebziger Jahren zeigte
die Fähigkeit einer UV/ozone Mischung, Oberflächen in kleiner als
eine Minute, unter optimalen Bedingungen zu reinigen. Seit
damals hat Gebrauch UV/ozone ständig sich vieler Industrien erhöht.

Um die optimalen Bedingungen für UV/ozone Reinigung
festzustellen, fingen die Experimentatoren an indem sie zwei
UVREINIGUNG Kästen herstellten, gebildet aus Aluminium heraus.
Beide Kästen enthielten die Quecksilberlampen, die benutzt
würden, um unterschiedliche Wellenlängen des Lichtes zu erzeugen und
dienten als die Variable im Experiment. Nur das Licht, das
aufgesogen wird, kann vom Gebrauch in der Reinigung, also von ihm sein
ist wichtig, festzustellen, was Wellenlängen am leistungsfähigsten
aufgesogen werden.

Zwei unterschiedliche Wellenlängen waren vom meisten Interesse
zum Experiment 184.9nm und 253.7nm., welches die Lichter durch drei
unterschiedliche Umschlagmaterialien (Quarz, hohes Silikonglas und
Glas) an jeder Wellenlänge führten. QuarzWAR in der Lage, zu
die Kreation von 184.9nm und von 253.7nm zu führen, während die
Glasgehäuse nicht beide produzieren konnten. Die Produktion
beider Wellenlängen ist bedeutend. Ozon wird auf dem 184.9nm
Niveau, während das Vorhandensein der 253.7nm Hilfen in der
Zerstörung des Ozons hergestellt. Wenn beide anwesend sind,
dann gibt es eine konstante Kreation und eine Zerstörung des Ozons,
der in den Umdrehungen die Anordnung des Atomsauerstoffes anregt, ein
außergewöhnlich starkes oxidierendes Mittel.

Während Ozon und UVSTRAHLUNG kombinieren, um ein starkes
Reinigungsmittel zu sein, fanden die Experimentatoren, daß grobe
Verschmutzung vor dem Prozeß entfernt werden sollte. Das
Vorreinigen läßt den Abbau der verunreiniger wie Staub zu, die nicht
durch den Ozon und das UVLICHT gesäubert werden kann. Auch es
verhindert, daß verunreiniger ein Schild gegen die UVSTRAHLEN durch
übermäßige Anhäufung bilden.

Indem es die Hauptverschmutzung mit einem anderen Wäscheprozeß
entfernt,IST das UV- und Ozon-Stadium in der Lage, das schwierigere
weg abzustreifen zu erreichen, kleiner, Partikel der Verschmutzung.
Das Experiment zeigt, daß die verschiedenen Methoden, ob sie
wäßrig sind, lösend oder eine Kombination ausreichend sind.

Abhängig von der Menge der Verschmutzung und des Abstandes von
der Quelle der Reinigung Mischung, kann der Reinigung Prozeß
bemerkenswert schnell sein. Um dieses zu messen, setzten die
Experimentatoren Einteiler zu säubernden Materials des 5mm von der
Lichtquelle im ersten Kasten und im zweiten Kasten legte ein Stück
Material bei 8cm. Das Stück, das bei 5mm gelegen ist, wurde
10mal schneller als die Probe bei 8cm gesäubert.

Mit einer Kombination von Wellenlängen bei 184.9nm und 253.7nm
durch den Gebrauch eines Quarzfilters, einen kleinen Abstand von der
Lichtquelle und ein Vorreinigen, wurden die Beispielmaterialien in
ungefähr 10 Sekunden gesäubert. Die Materialien erreichten
einen bemerkenswert hohen Standard von Sauberkeit in dieser Methode,
die er nahe-Atom- saubere Oberflächen produzierte, wie durch Auger
Elektronspektroskopie (AES), Elektronspektroskopie für chemische
Analyse (ESCA) und das Ion bewiesen, das spectroscopy/secondary
Ionenmasse Spektroskopie (ISS/SIMS) zerstreut studiert.

UV/Ozone Reinigung hat viele Anwendungen. Sie kann
verwendet werden, um Halbleiter zu säubern, wie sie im Experiment
war. Sie kann im Reinigung Wasser wirkungsvoll auch sein.
Die Reinigung Kombination hat die Fähigkeit zum freien Wasser
der giftigen verunreiniger wie Äthanol, medizinische Vergeudung und
Schädlingsbekämpfungsmittel gezeigt. Weitere Tests bezüglich
der Wasserreinigung mit UV/Ozone haben gezeigt, daß, die zwei im
Zusammenhang zu verwenden wirkungsvoller als mit irgendeinem alleine
ist.

Diese Methode der Reinigung funktioniert gut auf vielen flachen
Oberflächen lieferte die korrekte Einstellung wird verwendet.
So lang, wie die zu säubernde Oberfläche die grobe entfernte
Verschmutzung gehabt hat, wird richtig dem Licht herausgestellt, und
die optimale Zeitmenge gegeben gesäubert zu werden, produziert
UV/Ozone Reinigung eine fast vollständig saubere Oberfläche durch
jedes mögliches Maß.

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